根据我的了解,光刻机追求,小波长的目的是减少光在经过芯片模板后的衍射,刻出更小的槽.
根据光子波粒二象性, 衍射是波的特性,
那么为什么不通过观测手段,让波函数蹋缩,让'紫外线'只有粒子性,这样没有衍射的影响,不就可以制造更小的槽,从而提升光刻机的制程?
而且当光只有粒子性后,就不需要追求更低波长了,可以直接使用已有成熟的光源.
你说的没错，但现实中很难实现，所以如果一定还是用光的话，只能往更短波长方向发展
但是，现在，值得庆幸的是，我提出了一个新的实现方法，用电子代替光子，虽然电子半径比光子大一点点，但是，它没有波性，可以控制在费米以下，所以纳米对它来说不在话下，希望你能把电子刻制机研究出来，先祝你成功